檢索結果：共7筆資料 檢索策略： "劉一宇".ccommittee (精準) and ckeyword.raw="機器學習"
個人化服務 ：
排序：
每頁筆數：
已勾選0筆資料
1
由於製程的進步讓電晶體的面積越來越小，使得晶片上的電晶體數量呈現指數趨勢的成長，導致在進行電壓降分析時需要消耗大量的時間和資源。而近年來，機器學習發展十分迅速，有許多機器學習的方法被應用在預測電壓降…
2
在使用商業軟體進行動態電壓降 (Dynamic IR drop) 分析時非常地耗時， 而在實際應用中，需要大量的測試向量來驗證電路的電源完整性。在這篇 論文中，我們提出了一種基於機器學習 (Mach…
3
在晶片設計流程中，靜態電壓衰退 (IR-drop) 分析是極為重要且必定會執行的程序，它甚至可以在整個設計流程中會被重複執行多次，尤其是在工程改變命令 (Engineering change ord…
4
現今超大型積體電路(VLSI)設計為了滿足電路對於性能、面積和功率消耗嚴格的要求，如何在設計流程早期階段提供準確的功率消耗估算，對於現代超大型積體電路設計中晶片上系統(SoC)的設計探索和驗證至關重…
5
電壓降和有效電阻是評估現代積體電路設計中電源傳輸網路穩健性的關鍵指標。在現今積體電路設計流程中的工程改變命令（ECO）階段需要對電源傳輸網路進行迭代調整，過程中需要多次啟動電源傳輸網路分析工具來評估…
6
隨著先進製程快速發展以及半導體產業的蓬勃發展，晶片大小也越來越小，因此有更多複雜的設計規則需要被遵守，而一個晶片在被下線之前必須沒有違反任何一個設計規則，這導致一個電路的可繞度就變得相對重要許多。此…
7
隨著半導體製程持續的縮減，標準元件也變得更小。因此，設計規則的數量大幅增加，讓實體設計流程變得更困難，尤其是標準元件的繞線階段，很多設計規則違反可能會出現在此階段。由於複雜的設計規則和有限的繞線資源…